微美全息開發(fā)基于數(shù)字全息技術(shù)的半導體晶圓缺陷檢測技術(shù)
2023-07-12 18:17:20AI云資訊1324
據(jù)報道,微美全息(NASDAQ:WIMI)作為領(lǐng)先的技術(shù)創(chuàng)新公司,近日成功開發(fā)了一種基于數(shù)字全息技術(shù)的半導體晶圓缺陷檢測技術(shù),為半導體制造行業(yè)帶來了重要的突破。
半導體制造過程中的缺陷檢測是確保良率提升和過程監(jiān)控的關(guān)鍵一環(huán)。近期,國際技術(shù)路線圖委員會(ITRS)將高縱橫比結(jié)構(gòu)確定為半導體制造中的關(guān)鍵結(jié)構(gòu),然而目前尚未找到已知的可制造缺陷檢測解決方案。WIMI微美全息開發(fā)了一種基于數(shù)字全息術(shù)的創(chuàng)新檢測技術(shù),旨在滿足半導體晶圓缺陷檢測的需求。該技術(shù)利用數(shù)字全息術(shù)記錄波前從目標物體直接到CCD相機獲取的單個圖像的振幅和相位,通過分辨高度差的相位差,能夠有效地發(fā)現(xiàn)晶圓上小至幾納米的缺陷。
數(shù)字全息技術(shù)是一種基于光學原理的高分辨率成像技術(shù),能夠記錄并分析目標物體的波前信息。通過利用深紫外激光照明和相位差分析,該技術(shù)能夠精確地檢測到高縱橫比結(jié)構(gòu)上小至幾納米的缺陷。相比傳統(tǒng)的缺陷檢測方法,數(shù)字全息技術(shù)具有更高的靈敏度、更好的分辨率以及無損檢測的優(yōu)勢。半導體晶圓的缺陷檢測一直是半導體制造過程中不可或缺的一環(huán)。隨著半導體器件尺寸的不斷縮小和工藝的復雜化,傳統(tǒng)的缺陷檢測方法面臨著挑戰(zhàn)。針對這一問題,WIMI微美全息的研發(fā)團隊經(jīng)過不懈努力,成功地將數(shù)字全息技術(shù)引入到半導體晶圓的缺陷檢測中。
數(shù)字全息技術(shù)利用深紫外激光照明,記錄目標物體波前的振幅和相位信息。通過將激光束分為參考光和物光,將它們分別照射到CCD相機和待測物體上,得到參考光和物光的干涉圖案。然后,通過數(shù)學重構(gòu)算法,可以從干涉圖案中恢復出物光的振幅和相位信息。相位信息能夠準確地反映目標物體的表面形貌。
WIMI微美全息通過使用數(shù)字全息技術(shù)的半導體晶圓缺陷檢測技術(shù)的成功開發(fā),將為半導體制造行業(yè)帶來諸多好處。首先,數(shù)字全息技術(shù)能夠提高制造良率,減少缺陷產(chǎn)品的生產(chǎn)和浪費。其高靈敏度和分辨率使得對高縱橫比特征的缺陷檢測更加準確和可靠,有助于及早發(fā)現(xiàn)并解決生產(chǎn)中的問題。
其次,數(shù)字全息技術(shù)提供了缺陷的相位信息,使得用戶可以直觀地觀察和分析缺陷的形態(tài)、尺寸和拓撲結(jié)構(gòu)。這對于理解缺陷的產(chǎn)生機制和優(yōu)化制造流程具有重要意義。此外,該技術(shù)還可以生成晶圓表面的三維圖像,進一步提供對缺陷的可視化和深入分析。
此外,微美全息(NASDAQ:WIMI)的數(shù)字全息技術(shù)在多項實驗和測試中取得了顯著的成果。與其他晶圓檢測技術(shù)相比,數(shù)字全息技術(shù)在高縱橫比結(jié)構(gòu)的缺陷檢測方面表現(xiàn)出獨特的優(yōu)勢。該項技術(shù)已經(jīng)成功應(yīng)用于幾種缺陷檢測基準晶圓,并與其他傳統(tǒng)方法進行了比較。實驗結(jié)果表明,數(shù)字全息技術(shù)在檢測高縱橫比特征的缺陷方面具有出色的性能。特別是對于蝕刻不正確的觸點等高度差小至幾納米的缺陷,數(shù)字全息技術(shù)能夠精確地捕捉到,并提供高質(zhì)量的相位和振幅圖像。數(shù)字全息技術(shù)在半導體晶圓缺陷檢測中具有以下優(yōu)勢:
高靈敏度和分辨率:數(shù)字全息技術(shù)能夠檢測到小至幾納米的缺陷,對高縱橫比結(jié)構(gòu)的缺陷檢測具有較高的靈敏度和分辨率。
無損檢測:數(shù)字全息技術(shù)是一種非接觸式的檢測方法,對晶圓樣品沒有物理損傷,能夠保持樣品的完整性和可重復性。
缺陷可視化和拓撲結(jié)構(gòu)分析:數(shù)字全息技術(shù)提供了缺陷的相位信息,使得用戶可以直觀地觀察和分析缺陷的形態(tài)、尺寸和拓撲結(jié)構(gòu)。這對于理解缺陷的產(chǎn)生機制和優(yōu)化制造流程具有重要意義。
自動化和高效性:數(shù)字全息技術(shù)可以與圖像處理和機器學習算法相結(jié)合,實現(xiàn)自動化的缺陷檢測和分類。通過對大量數(shù)據(jù)的分析,可以快速準確地識別和定位缺陷,提高生產(chǎn)效率和制造良率。
與其他技術(shù)的比較,數(shù)字全息技術(shù)在對高縱橫比特征的缺陷檢測方面具有明顯的優(yōu)勢,例如蝕刻不正確的觸點。數(shù)字全息技術(shù)能夠準確捕捉到這些缺陷,從而改進了對高縱橫比特征的缺陷檢測能力。
除了卓越的檢測能力,數(shù)字全息技術(shù)還具備自動化和高效性的優(yōu)勢。通過與圖像處理和機器學習算法的結(jié)合,該技術(shù)可以實現(xiàn)自動化的缺陷檢測和分類。通過對大量數(shù)據(jù)的分析,可以快速準確地識別和定位缺陷,從而提高生產(chǎn)效率和制造良率。
數(shù)字全息技術(shù)在半導體晶圓缺陷檢測領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。隨著半導體工藝的不斷發(fā)展和納米級制造的需求增加,對高分辨率、高靈敏度的缺陷檢測技術(shù)的需求不斷增加。數(shù)字全息技術(shù)作為一種非接觸式、高分辨率的成像技術(shù),有望成為半導體制造中的重要工具,推動半導體制造的進步。
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