5G技術(shù)讓華為在世界上一炮成名，并且也讓我國在全球擺脫了通信技術(shù)落后的局面。5G建設(shè)、5G專利等方面這一次我國都領(lǐng)先了其他國家，所以華為在這當(dāng)中自然是實現(xiàn)了功不可沒的成績。除了5G摘下勝利果實，在5G突破的同年，華為的手機業(yè)務(wù)也反超了蘋果，可以說是雙喜臨門了。

華為突破之后，任正非預(yù)料的事情就接連發(fā)生

華為之所以能在手機業(yè)務(wù)上反超蘋果，靠的就是一手自研芯片的成績。海思麒麟在性能上的提升已經(jīng)出乎了大多數(shù)人的意料，自從970時代之后，華為手機的性能就在穩(wěn)步提升，芯片的AI能力也可圈可點，這一點已經(jīng)也是公認的事實。但正如當(dāng)初任正非所預(yù)料的那樣，華為強大之后就有人“找上門”來，針對華為發(fā)起了一系列限制。

尤其在全球化最廣泛的半導(dǎo)體領(lǐng)域，華為受到的沖擊可謂是相當(dāng)劇烈，技術(shù)無法完全使用，供應(yīng)鏈也受到了限制，而這也凸顯出了國內(nèi)在芯片制造環(huán)節(jié)上的缺陷，暴露了弊端。在芯片制造環(huán)節(jié)當(dāng)中，原材料、光刻機等環(huán)節(jié)是重中之重，雖說原材料可以從日本進口，但光刻機卻不是一個國家能完成的。

目前荷蘭的ASML是光刻機方面的巨頭企業(yè)，但其內(nèi)部零件也是由多個國家、多個企業(yè)整合而成，并且中芯之前訂購的EUV光刻機也一直遲遲沒有發(fā)貨，這在一定程度上就已經(jīng)限制了我國芯片事業(yè)的發(fā)展。雖然目前我國中科院已經(jīng)將光刻機作為重點研究對象，但短時間內(nèi)肯定還無法實現(xiàn)商用。

國產(chǎn)芯片傳“捷報”，新技術(shù)已被驗證

不過就在國產(chǎn)芯片行業(yè)受到光刻機等光刻技術(shù)限制的時候，我國在另外一項技術(shù)上傳來了捷報，甚至這個消息的出現(xiàn)將會有望讓我國打破國外壟斷，取代一直以來的光刻技術(shù)。近日，浙江西湖高等研究院傳來了消息，曝光了堪比光刻技術(shù)的“冰刻技術(shù)”。

所謂冰刻技術(shù)并不是近兩年才提出來的，早在2012年，西湖大學(xué)的副校長就提出了關(guān)于冰刻的概念與想法。與傳統(tǒng)的光刻技術(shù)不同，冰刻的做法是在-140℃的密閉真空環(huán)境當(dāng)中通過水蒸汽結(jié)冰的方式，迅速在晶片上形成冰膜，然后再利用相關(guān)技術(shù)在冰膜上進行刻錄，最后通過揮發(fā)等手段完成芯片的制造。

光刻機有望被取代？

目前冰刻技術(shù)已經(jīng)能夠在光纖末端做出復(fù)雜的微納米冰雕，這也就意味著該技術(shù)目前在某些特定場合中已經(jīng)有了一定的實用價值。而這也就意味著冰刻技術(shù)的發(fā)展前景相當(dāng)廣闊，未來有機會實現(xiàn)對傳統(tǒng)光刻技術(shù)的替代。

相比于傳統(tǒng)的EUV光刻技術(shù)而言，冰刻技術(shù)有兩點優(yōu)勢。首先，冰刻技術(shù)不會用到光刻膠，而光刻機則會因為光刻膠的好壞影響到芯片成品效果的問題。其次，光刻機在使用光刻膠之后還要對機器進行徹底清潔，如果清潔不到位，也會降低后續(xù)芯片生產(chǎn)的良品率問題。

相比之下，采用電子束和水蒸氣的冰刻技術(shù)就不會存在這些弊端問題，而這也是冰刻技術(shù)最大的優(yōu)勢所在。不過冰刻技術(shù)對溫度要求過于苛刻，這一點也是冰刻技術(shù)想必光刻技術(shù)最大的難點。

其次，在冰刻過程當(dāng)中至關(guān)重要的電子束方面，先進技術(shù)也掌握在了日本的JEOL與Elionix兩家企業(yè)的手里，這兩家企業(yè)的電子束精度都能夠達到10nm左右，而國內(nèi)的電子束技術(shù)最先進的也只有1微米。這其中的差距不用多解釋想必很多人也都能明白。

所以從現(xiàn)在的情況來看，冰刻技術(shù)確實有機會能取代光刻機，光刻機也不再是唯一選擇，這也是我國在芯片行業(yè)當(dāng)中突破的又一條路，但冰刻技術(shù)也存在著一些不得不面對的難題，所以國內(nèi)的企業(yè)還需要繼續(xù)努力。

你看好這項技術(shù)嗎？