半導(dǎo)體巨頭正式確認,光刻機得到了,又一領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)突破
2021-04-08 10:51:03AI云資訊1267
光刻機是生產(chǎn)芯片的核心設(shè)備,難度最高
要將這條路走出來,光刻機的問題就必須解決,否則再優(yōu)秀的作品,依舊要交由臺積電或者三星來代工,所以也就只有自己去造光刻機了。但是行業(yè)的人都知道,光刻機是芯片產(chǎn)業(yè)中最難制造的設(shè)備。
不少專家已經(jīng)明確表示過,一個國家能夠獨立制造出最先進的光刻機,說明這個國家在光學(xué)、力學(xué)、材料學(xué)等各個科學(xué)領(lǐng)域至少都是世界前三的存在,所以即使是ASML,80%以上的部件都只能進口。
歷史上曾經(jīng)短暫出現(xiàn)過這么一個國家,能夠獨立制造出世界最優(yōu)秀的光刻機,他就是上個世紀七八十年代的日本。那個時候日本的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)全面領(lǐng)先M國,當之無愧的世界第一,但那時的芯片最好也才155nm。
光刻機不僅能生產(chǎn)芯片,還是一個檢測臺
光刻機技術(shù)雖難,可一旦研發(fā)出來,能帶來的收益也是相當可觀的。因為不僅有臺積電、中芯國際、三星這樣的芯片代工廠會用到它,涉及到芯片制作過程中所需的材料也需要光刻機去驗證。
比如光刻膠這一再光刻機上使用的材料,芯片的制作難度越高,對光刻膠的要求也就越高。如何判斷光刻膠是否滿足芯片制作的需求,利用光刻機來檢驗再好不過,所以他們就不得不去購買光刻機。
遺憾的是,光刻膠這一對于芯片生產(chǎn)極其重要的材料,同大多數(shù)核心設(shè)備一樣,普通的我們什么都會,先進的卻不得不依靠進口。日本則是在光刻膠中獲益最大的國家,如何解決光刻膠難題?購買光刻機成了關(guān)鍵。
半導(dǎo)體巨頭獲光刻機,光刻膠有望
國內(nèi)從事光刻膠生產(chǎn)的企業(yè)不多,最為拔尖的就是晶瑞股份,他們的光刻膠長期停留在56nm到68nm這一階段,也只能為這一工藝制程的芯片服務(wù),但市場上這樣的芯片早就進入了一個淘汰、剔除的階段。
如何將購得光刻機是光刻膠能夠順利突破到28nm的級別,是他們面臨的難題。只有這樣,光刻膠的業(yè)務(wù)才能在28nm的市場上找到轉(zhuǎn)機,經(jīng)過多次的協(xié)商以及談判,晶瑞股份終于買到了一臺ASMLXT1900Gi型光刻機。
為迎接這一臺光刻機的到來,晶瑞股份還專門舉辦了一個揭牌儀式,它就如同一臺驗證的機器,在晶瑞股份的光刻膠突破到28nm階中可以給足相當大的提示,幫助他們迅速得到預(yù)期的突破。
我國正在全力突破光刻機難題
至于光刻機方面,這本是一個連接的世界,我國想要靠自己的力量,在短期內(nèi)打造出世界最為先進的光刻機這本就是異想天開,尋求國際合作加速進程才是最為高效地辦法。
據(jù)悉,世界光刻機巨頭之一,曾經(jīng)的世界第一尼康,已經(jīng)就光刻機的問題與我國展開了深入合作,在不少人以為尼康頹廢的時候,它此次明顯就有一種重回巔峰的氣勢,決心也是相當堅定。
光刻機不能一朝一夕促成,但我們先在其它領(lǐng)域進行突破,各行各業(yè)額人都行動起來,芯片的問題要解決,也就沒有那么難了。當我們什么都會的時候,難道他們還敢拿光刻機限制我們不成?
到了2021年,我們解決的芯片產(chǎn)業(yè)上的技術(shù)難題實在太多,DSP芯片、RISV-C架構(gòu)的研究、第二代N 1工藝,到了明年還有更多的新東西出來。為此,再難的骨頭也要啃下來,畢竟如今的社會發(fā)展,科技創(chuàng)新才是最為核心的競爭力。
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