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國內(nèi)廠商科美發(fā)布全國產(chǎn)防硫化工業(yè)級內(nèi)存條,填補(bǔ)國內(nèi)空白

2023-08-25 14:14:13AI云資訊1331

最新消息,國內(nèi)廠商蘇州科美宣布推出備受期待的第二代全國產(chǎn)SODIMM內(nèi)存條,在實現(xiàn)了全國產(chǎn)的同時,也實現(xiàn)了防硫化和30邁金手指鍍金,填補(bǔ)了國內(nèi)空白,為工業(yè)級計算機(jī)、信創(chuàng)等系統(tǒng)應(yīng)用帶來高可靠的進(jìn)口替代產(chǎn)品。讓小編帶大家一起,深入探索這項突破性的產(chǎn)品特色,揭示此系列內(nèi)存條的創(chuàng)新之處。

據(jù)了解,科美第二代工業(yè)級全國產(chǎn)寬溫DDR4 SODIMM內(nèi)存條符合JEDEC標(biāo)準(zhǔn)設(shè)計,搭載高品質(zhì)長鑫A die晶片,頻率為2666,可選容量為8GB和16GB。經(jīng)科美嚴(yán)苛性能與可靠性測試,可在常溫(0℃~ +70℃)、寬溫(-40℃~+85℃)的溫度范圍內(nèi)穩(wěn)定工作。

據(jù)悉,第二代全國產(chǎn)SODIMM內(nèi)存條是科美砥礪前行的成果。此系列內(nèi)存條相比于科美第一代內(nèi)存條產(chǎn)品,第二代SODIMM內(nèi)存條引入了兩項重要的創(chuàng)新技術(shù)。

首先,第二代SODIMM內(nèi)存條新增了金手指30μ鍍金技術(shù),此技術(shù)不僅加強(qiáng)了內(nèi)存條的導(dǎo)電性能,還在信號傳輸中發(fā)揮著至關(guān)重要的作用,為內(nèi)存條的信號傳輸保駕護(hù)航,穩(wěn)定性和效率顯著提升。

其次,科美還引入的防硫化技術(shù),此技術(shù)為內(nèi)存條的穩(wěn)定性提供了堅實保障,使其在惡劣環(huán)境下依然能夠持續(xù)高效運行,為內(nèi)存條提供了額外的保護(hù)層,有效抵御了硫化物帶來的潛在損害。

這兩種技術(shù)的研發(fā),使得科美內(nèi)存條兼具高效導(dǎo)電與長期穩(wěn)定可靠的雙重優(yōu)勢。

相關(guān)消息稱,科美第二代工業(yè)級全國產(chǎn)寬溫DDR4 SODIMM內(nèi)存條不僅新增了上述兩項創(chuàng)新技術(shù),還具有下述特點:

穿透100%全國產(chǎn)

科美第二代工業(yè)級全國產(chǎn)寬溫DDR4 SODIMM內(nèi)存條實現(xiàn)了穿透全國產(chǎn),此產(chǎn)品搭載國產(chǎn)自主可控的長鑫(CMXT)最新DDR4內(nèi)存芯片,存儲器頻率為3200MT/s, 具有高速數(shù)據(jù)傳輸、性能穩(wěn)定、功耗低等特點,可適用于多領(lǐng)域應(yīng)用,為國內(nèi)存儲騰飛貢獻(xiàn)一份力量。

可達(dá)寬溫

科美一直以來對產(chǎn)品性能和可靠性的要求極高。第二代工業(yè)級全國產(chǎn)寬溫DDR4 SODIMM內(nèi)存條經(jīng)過嚴(yán)苛的性能與可靠性測試,可在常溫(0℃~ +70℃)和寬溫(-40℃~+85℃)的溫度范圍內(nèi)穩(wěn)定運行,適用于各類工業(yè)計算機(jī)、監(jiān)控設(shè)備、自動化與嵌入式系統(tǒng)等領(lǐng)域。無論是嚴(yán)寒的北方還是酷熱的南方,它都能夠始終如一地可靠工作。

金手指30μ鍍金厚度

工業(yè)應(yīng)用可能會遇到各種挑戰(zhàn),如長期運行、空氣污染、濕度和溫度變化、灰塵、震動、化學(xué)腐蝕和其他外部干擾。這些都將影響內(nèi)存條的可靠性。

科美第二代工業(yè)級全國產(chǎn)寬溫DDR4 SODIMM內(nèi)存條采用金手指連接器,連接PCB到主板,確保信號或命令可靠地傳輸。除了連接性,合金還保護(hù)電路板的邊緣不受損壞。最重要的是,此系列內(nèi)存條金手指融入了30μ鍍金厚度,為工控設(shè)備的提供更大的導(dǎo)電性,并防止氧化,磨損和化學(xué)反應(yīng),確保工控設(shè)備在不利條件下穩(wěn)定可靠地運行,特別適用于軍事、監(jiān)視系統(tǒng)、工廠自動化和運輸領(lǐng)域。

防硫化技術(shù)

硫化(這里指金屬硫化),是硫與空氣或水份反應(yīng)而形成硫化氫。當(dāng)硫化氫被吸附于金屬表面,逐漸與金屬結(jié)合產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng),而形成硫化物。當(dāng)硫化氫自內(nèi)存的邊緣擴(kuò)散至電阻層時,引發(fā)化學(xué)反應(yīng),使得原先作為導(dǎo)體的氯化銀電極轉(zhuǎn)變?yōu)榻^緣體的硫化銀,導(dǎo)致電阻無法正常發(fā)揮功能,甚至形成開路。

針對工控設(shè)備有可能應(yīng)用在高溫、高濕、高污染等硫氣濃度高之環(huán)境,例如曝露于廢氣排放濃度高區(qū)域,或礦區(qū)的電子設(shè)備上,內(nèi)存模塊上有可能會發(fā)生硫化并影響功能,為了避免電阻硫化,則需對電阻進(jìn)行抗硫化的處理??泼赖诙I(yè)級全國產(chǎn)寬溫DDR4 SODIMM內(nèi)存條引入的防硫化技術(shù),為內(nèi)存條提供了額外的保護(hù)層,有效抵御硫化物對內(nèi)存條的腐蝕影響,延長了其使用壽命,確保在惡劣環(huán)境中也能長壽命、可靠運行。

惡劣環(huán)境下穩(wěn)定運行

工控設(shè)備常應(yīng)用在潮濕、振動、污染、腐蝕等惡劣環(huán)境中,科美第二代工業(yè)級全國產(chǎn)寬溫DDR4 SODIMM內(nèi)存條在嚴(yán)苛的應(yīng)用環(huán)境下依然能夠可靠運行,進(jìn)一步賦能工控設(shè)備的耐久性,以適應(yīng)工業(yè)應(yīng)用設(shè)備較長的生命周期。

廣泛兼容國產(chǎn)平臺和操作系統(tǒng)

在科技生態(tài)中,無縫兼容是創(chuàng)新的基礎(chǔ)??泼纼?nèi)存條已在實驗室進(jìn)行多重兼容性測試,與飛騰、龍芯等國產(chǎn)CPU平臺,以及麒麟、銀河、統(tǒng)信等國產(chǎn)操作系統(tǒng)進(jìn)行了緊密適配。無論您的系統(tǒng)配置如何,科美內(nèi)存條都能為您提供穩(wěn)定、高效的支持。

科美官方透露,第二代工業(yè)級全國產(chǎn)寬溫DDR4 SODIMM內(nèi)存條的發(fā)布,標(biāo)志著科美在自主可控領(lǐng)域持續(xù)的突破與創(chuàng)新??泼郎钚?,創(chuàng)新是引領(lǐng)未來的鑰匙,也是科美前進(jìn)的動力。這款內(nèi)存條的問世,將為國產(chǎn)科技注入新的生命力,為國內(nèi)工業(yè)界帶來新的發(fā)展機(jī)遇。

基于此,相信在科美的努力下,未來會有更多的工業(yè)級全國產(chǎn)內(nèi)存條呈現(xiàn)給我們。這些內(nèi)存條將為工業(yè)應(yīng)用提供更加穩(wěn)定、可靠的保障,推動工業(yè)領(lǐng)域的不斷發(fā)展。同時,也為國產(chǎn)科技產(chǎn)業(yè)注入新的活力,提升我國科技產(chǎn)業(yè)的競爭力和創(chuàng)新能力。讓我們一起期待科美發(fā)布更多優(yōu)秀的科技成果!

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